La piattaforma ELISA è uno degli strumenti chiave di formazione e monitoraggio contro il bullismo ed il cyberbullismo.
Il Ministero dell’Istruzione e del Merito ha recentemente emanato una circolare (Protocollo n. 332 del 18 febbraio 2025) focalizzata sulle azioni di prevenzione e contrasto al bullismo e al cyberbullismo per l’anno scolastico 2024/2025. Questa iniziativa si inserisce nel quadro normativo delineato dalla legge 29 maggio 2017, n. 71 e mira a fornire alle istituzioni scolastiche strumenti efficaci per affrontare il tema sempre più complesso.
Uno degli strumenti chiave promossi è la Piattaforma ELISA (E-Learning degli Insegnanti sulle Strategie Antibullismo), sviluppata in collaborazione con l’Università degli Studi di Firenze. La piattaforma offre percorsi formativi gratuiti e monitoraggio dei fenomeni di bullismo e cyberbullismo nelle scuole. I percorsi formativi includono:
- Formazione per docenti referenti: un percorso di 25 ore suddiviso in quattro corsi progressivi, destinato ai docenti incaricati di affrontare queste tematiche.
- Formazione per dirigenti scolastici e collaboratori: un corso di 5 ore focalizzato sulle strategie di prevenzione e gestione di questi fenomeni a livello istituzionale.
- Formazione per tutto il personale docente: un modulo di 5 ore che fornisce una panoramica sulle dinamiche del bullismo e del cyberbullismo e sugli interventi possibili.
- Percorso formativo per studenti: a partire da marzo 2025, sarà disponibile un programma che coinvolgerà attivamente gli studenti, promuovendo modelli di peer education per aumentare la consapevolezza e la responsabilità tra i giovani.
Oltre alla formazione, la Piattaforma ELISA prevede un monitoraggio continuo del fenomeno, coinvolgendo studenti e docenti del primo e secondo ciclo di istruzione. Le modalità operative per il monitoraggio saranno comunicate attraverso note specifiche.
L’obiettivo è quello di contribuire a creare ambienti scolastici sicuri ed inclusivi, dove ogni studente possa sentirsi protetto e valorizzato.
LINK UTILI
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